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设备_无尘打磨房贴心服务
2025-05-25 01:31:57 ip归属地:伊犁,天气:小雨转多云,温度:11-22 浏览次数:23 作者:赣州 越浩节能设备有限公司(伊犁分公司)
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产品参数
产品价格98/台
发货期限1天
供货总量866
运费说明免费
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印刷废气处理设备,化学洗涤除臭设备适用于污水处理厂、制药厂、化工厂等具有碱性或酸性且浓度比较高的尾气治理。活性炭除臭设备采取切线出风、环状过滤、中间进风、上不加料、下部卸料的结构,克服了传统的活性炭过滤器过滤阻力大、面积小、占地面积大、设备投资高、更换活性炭困难等缺陷,使活性炭过滤设备结构设计近乎于完美。 印刷废气处理设备 ,但使用环保废气处理净化设备后,可有效去除油污颗粒、油雾颗粒等厨房废气,对空气净化起到一定的作用。加工车间包括油炸食品加工车间、油炸烹饪食品加工车间等。加工车间的环境是烟熏的,但如果操作环境过于浑浊,影响经营者的加工,则必须使用无害环境的废气处理和净化设备。 废气处理设备用于处理中低浓度的有机废气(VOC)。它的工作原理是在高温下将可燃废气氧化成对应的氧化物和水,从而净化废气,并回收废气分解时所释放出来的热量,废气分解效率达到99%以上,热回收效率达到95%以上。RTO废气处理设备主体结构由燃烧室、陶瓷填料床和切换阀等组成。 涂装喷漆废气主要为挥发性有机物VOCs、苯系物、颗粒物、恶臭气体等污染因子,主要汽车制造、家具行业、船舶制造、集装箱制造、金属制品、机械设备、铁路制造等表面处理时产生的。废气主要污染污染源分两类:1.颗粒物产生于基本表面处理时产生粉尘、喷涂法作业过程喷漆雾、腻子层、中间涂层打磨粉尘;2.VOCs有机废气产生于调漆过程溶剂挥发、施涂/涂覆过程溶剂挥发、喷涂作业过喷漆雾带离、干燥固化过程溶剂挥发、干燥固化反应产生的新挥发物。




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车间废气处理设备 在用多孔性固体物质处理流体混合物时,流体中的某一组分或某些组分可被吸表面并浓集其上,此现象称为吸附。吸附处理废气时,吸附的对象是气态污染物,气固吸附。被吸附的气体组分称为吸附质,多孔固体物质称为吸附剂。固体表面吸附了吸附质后,一部被吸附的吸附质可从吸附剂表面脱离,此现附。 车间废气处理设备 从理论上讲,只要半导体吸收的光能不小于其带隙能,就足以激发产生电子和空穴,该半导体就有可能用作光催化剂,常见的单一化合物光催化剂多为金属氧化物或硫化物,如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。这些催化剂各自对特定反应有突出优点,具体研究中可根据需要选用,如CdS半导体带隙能较小,跟太阳光谱中的近紫外光段有较好的匹配性能,可以很好地利用自然光能,但它容易发生光腐蚀,使用寿命有限。相对而言,Ti02的综合性能较好,是广泛使用和研究的单一化合物光催化剂。




光催化是常温深度反应技术。光催化氧化可在室温下将水、空气和土壤中有机污染物完全氧化成无害的产物,而传统的高温焚烧技术则需要在极高的温度下才可将污染物摧毁,即使用常规的催化、氧化方法亦需要高温,燃烧法用于处理高浓度Voc与有恶臭的化合物很有效,其原理是用过量的空气使这些杂质燃烧,大多数生成二氧化碳和水蒸气,可以排放到大气中。但当处理含氯和含硫的有机化合物时,燃烧生成产物中HCl或SO2,需要对燃烧后气体进一步处理设备。 从理论上讲,只要半导体吸收的光能不小于其带隙能,就足以激发产生电子和空穴,该半导体就有可能用作光催化剂,常见的单一化合物光催化剂多为金属氧化物或硫化物,如 Ti0。、Zn0、ZnS、CdS及PbS等。这些催化剂各自对特定反应有突出优点,具体研究中可根据需要选用,如CdS半导体带隙能较小,跟太阳光谱中的近紫外光段有较好的匹配性能,可以很好地利用自然光能,但它容易发生光腐蚀,使用寿命有限。相对而言,Ti02的综合性能较好,是广泛使用和研究的单一化合物光催化剂。




催化燃烧废气处理设备系统特点:   1、催化燃烧采用RCO工艺净化有机废气,可同时去除多种有机污染物,具有工艺简单、设备紧凑、运行可靠等优点;   2、催化燃烧设备具有净化率高,一般均可达95%以上;   3、催化燃烧设备具有运行费用低的优点,其热回收率一般可达95%以上;   4、整个过程无废水产生,净化过程不产生二次污染;   5、催化燃烧RCO净化设备可与烘箱配套使用,净化后的气体直接回用到烘箱加热设备,达到节能减排的目的;   6、催化燃烧设有5道装置,杜绝事故发生;   7、催化燃烧蓄热系统采用加热系统分段工作,自动跟踪温度并内置蓄热装置,节能省电;

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